Ниобиевая мишеньпредставляет собой мишень из чистого металлического ниобия, которая в основном используется при осаждении материалов, выращивании пленок и плазменно-усиленном осаждении (PECVD) в процессе физического испарения покрытия для улучшения качества пленки и однородности толщины пленки. В то же время ниобиевая мишень также может использоваться при производстве других электронных компонентов и полупроводниковых приборов.
Отображение изображений целевого продукта ниобия
Мишень для распыления металла из чистого nb
Мишень для распыления металла из чистого ниобия