Каковы проблемы использования вольфрамовых целей?

Высокая температура плавления: высокая температура плавления вольфрама (3422 градуса) требует, чтобы система распыления работала при высоких температурах. Это требует более надежного оборудования и более высокого входа энергии. Чтобы преодолеть эту проблему, разрабатываются передовые технологии распыления с улучшенными механизмами отопления и охлаждения. Например, индукционный нагрев или мощные радиочастотные источники используются для эффективного нагрева цели, в то время как передовые системы охлаждения используются для контроля общей температуры камеры расщепления.

Пленок стресс: вольфрамовые пленки могут иметь неотъемлемые напряжения, которые могут вызвать растрескивание или очистку пленки, особенно при осаждении в определенных условиях или при определенной толщине. Чтобы контролировать эти напряжения, параметры процесса, такие как распыляющая мощность, поток газа и температура субстрата, должны быть тщательно оптимизированы. Кроме того, для снятия внутреннего стресса пленки можно использовать методы лечения отжига после отложения.

Целевые проблемы связывания: из -за высокой твердости и хрупкости вольфрамовых мишеней трудно эффективно связаться с пластиной. Это необходимый шаг для эффективного рассеяния тепла и механической стабильности во время процесса распыления. Изучаются новые методы связи, такие как использование специализированных кледей или улучшенные методы механического зажима для обеспечения прочной и надежной связи между целевой мишенью и задней пластиной.